光學(xué)顯微鏡(OM)
技術(shù)原理
光學(xué)顯微鏡的成像原理,是利用可見(jiàn)光照射在試片表面造成局部散射或反射來(lái)形成不同的對(duì)比,然而因?yàn)榭梢?jiàn)光的波長(zhǎng)高達(dá)4000-7000埃,在解析度(或謂鑒別率、解像能,系指兩點(diǎn)能被分辨的*近距離)的考量上,自然是*差的。在一般的操作下,由于肉眼的鑒別率僅有0.2 mm,當(dāng)光學(xué)顯微鏡的*佳解析度只有0.2 um 時(shí),理論上的*高放大倍率只有1000 X,放大倍率有限,但視野卻反而是各種成像系統(tǒng)中*大的,這說(shuō)明了光學(xué)顯微鏡的觀察事實(shí)上仍能提供許多初步的結(jié)構(gòu)資料。
機(jī)臺(tái)種類
分析應(yīng)用
光學(xué)顯微鏡的放大倍率及解析度,雖無(wú)法滿足許多材料表面觀察之需求,但仍廣泛應(yīng)用于下列之各項(xiàng)應(yīng)用,諸如:
元件橫截面結(jié)構(gòu)觀察;
平面式去層次 (Delayer) 結(jié)構(gòu)分析與觀察;
析出物空乏區(qū) (Precipitate Free Zone) 的觀察;
差排線與過(guò)蝕刻(Overetch)凹痕的觀察;
氧化疊差(Oxidation Enhanced Stacking Faults, OSF)的研究等。